基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 銘柄名 | トリケミカル研究所 |
| 証券コード | 4369 |
| 市場区分 | 東京証券取引所プライム市場 |
| 業種 | 化学 |
| 設立日 | 1978年12月6日 |
| 上場日付 | 2013年7月16日 |
| 所在地 | 〒409-0112 山梨県上野原市上野原８１５４番地２１７ |
| 公式サイト | https://www.trichemical.com/ |
| IRサイト | https://www.trichemical.com/ir/ |
事業内容
更新日:
半導体等の製造に使われる高純度化学化合物を中心に、研究開発、製造、販売および輸出を行っています。
高純度化学化合物事業
半導体等の製造用高純度化学化合物と付帯業務を手がける単一セグメントの事業です。
光ファイバー材料
高純度化学化合物の用途の一つとして開示されています。
医薬品・工業材料向け化合物および高純度ガス
医薬品材料や各種工業材料向けの高純度化学化合物、高純度ガスを扱っています。
研究開発
高純度化学化合物の研究開発を行っています。
販売・輸出
製品を国内外の顧客へ販売・輸出しています。
ビジネスモデル
更新日:
高純度化学化合物を研究開発・製造し、半導体関連を中心とする顧客へ販売・輸出しています。
事業構成・セグメント
更新日:
2027年1月期第2四半期（中間期） / 2027年1月期 第2四半期（中間期）決算短信〔日本基準〕(連結)
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Si半導体向け High-k 48.5%
製品用途別売上高として7,131,886千円を開示しています。
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Si半導体向け Metal 21.7%
製品用途別売上高として3,197,699千円を開示しています。
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Si半導体向け Etching 12.7%
製品用途別売上高として1,870,414千円を開示しています。
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Si半導体向け その他 13.6%
製品用途別売上高として1,997,199千円を開示しています。
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その他用途（Si半導体向け以外） 3.5%
製品用途別売上高として508,666千円を開示しています。
| セグメント | 売上高 | 売上構成比 | 営業利益 |
|---|---|---|---|
| Si半導体向け High-k | 7,131,886千円 | 48.5% | 非開示 |
| Si半導体向け Metal | 3,197,699千円 | 21.7% | 非開示 |
| Si半導体向け Etching | 1,870,414千円 | 12.7% | 非開示 |
| Si半導体向け その他 | 1,997,199千円 | 13.6% | 非開示 |
| その他用途（Si半導体向け以外） | 508,666千円 | 3.5% | 非開示 |
| 全社（単一セグメント） | 14,705,866千円 | 100.0% | 3,838,236千円 |
会社は高純度化学化合物事業の単一セグメントであるため、用途別の営業利益は開示されていません。全社営業利益は3,838,236千円です。用途別売上高の表示値合計は14,705,864千円で、全社売上高14,705,866千円との差2千円があります。
Peer Comparison
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